最近，中微半導體設(shè)備（上海）有限公司自主研制的5納米等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。5納米（0.1毫米的二萬分之一），將成為集成電路芯片上的最小線寬。臺積電計劃明年進行5納米制程試產(chǎn)，預計2020年量產(chǎn)。刻蝕機是芯片制造的關(guān)鍵裝備之一，中微突破了“卡脖子”技術(shù)，讓“上海制造”躋身刻蝕機第一梯隊。

刻蝕機對精度的控制要求很高，方寸間近乎較限的操作。刻蝕尺寸的大小與芯片溫度有直接的關(guān)系，中微自主研發(fā)的部件使刻蝕過程的溫控精度保持在0.75攝氏度內(nèi)，達到水平。氣體噴淋盤是刻蝕機的核心部件之一，與進口噴淋盤相比，其晶粒十分精細、致密，而且國產(chǎn)陶瓷鍍膜的噴淋盤使用壽命延長一倍，造價卻不到五分之一。

刻蝕機曾是一些發(fā)達國家的出口管制產(chǎn)品，但近年來，這種高端裝備在出口管制名單上消失了。這說明如果我們突破了“卡脖子”技術(shù)。明年，臺積電將率優(yōu)質(zhì)入5納米制程，已通過驗證的國產(chǎn)5納米刻蝕機，預計會獲得比7納米生產(chǎn)線更大的市場份額。

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